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径流分子泵正正在多弧离子镀膜配备的最新操做

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掀晓于 2018-5-3 16:18:49 | 只看该做者 回帖嘉奖 |倒序浏览 |浏览情势
径流分子泵正正在多弧离子镀膜配备的最新操做
张永胜,储继国
1. 亚智体系科技(苏州)无限公司,江苏苏州215011;
2.深圳除夜教,深圳518060
THE NEW APPLICATIONG OF RADIAL MOLECULAR PUMPS(RMP)ON ARC ION PLATING COATERS
ZHANG Yong-sheng,CHU Ji-guo
1. Manz Coating GmbH,Suzhou Jiangsu 215011,China;
2. Shenzhen University,Shenzhen 518060,China

戴要 经过历程对新开提问世的径流分子泵停止引睹,其配开抽气特征,为多弧离子镀的工艺劣化供给了真践按照。传统多弧离子镀的抽气工艺战镀膜工艺,是正正在分离泵战涡轮分子泵抽气才华的限定下总结出来的。径流泵机组的问世,为多弧离子镀膜供给了愈减广大的镀膜工艺选择空间。那样便有需供对抽气工艺战镀膜工艺停止重组战劣化,进一步提降多弧离子镀膜配备的性能战经济效益。

关键词 : 多弧离子镀,  径流分子泵,  镀膜工艺,  抽气特征   

Abstract:This paper introduces the newly developed radial molecular pump(RMP). The theory of process optimization isbased on the special pump curve. The pump process and the coating process were developed according to restricted diffusion pumps and the TMPs. After the RMP is developed,it can extend the process windows for arc ion plating coating.It is necessary to optimize the pump process and the coating process to make the coater performance better.

Key words: arc ion plating           Radial Molecular Pumps(RMP)           coating process           pump speed

做者简介: 张永胜(1983-),男,江苏省洪泽人,硕士,处理真空镀膜、径流分子泵钻研工做。

援用本文: 张永胜,储继国. 径流分子泵正正在多弧离子镀膜配备的最新操做[J]. 真空与低温, 2016, 22(2): 111-113.       
ZHANG Yong-sheng,CHU Ji-guo. THE NEW APPLICATIONG OF RADIAL MOLECULAR PUMPS(RMP)ON ARC ION PLATING COATERS. journal1, 2016, 22(2): 111-113.

文章前导支端:《真空与低温》杂志2016年22卷2期

注销日期:2016-04-30

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